GaAs લેસર એપિટેક્સિયલ વેફર 4 ઇંચ 6 ઇંચ VCSEL વર્ટિકલ કેવિટી સપાટી ઉત્સર્જન લેસર તરંગલંબાઇ 940nm સિંગલ જંકશન
GaAs લેસર એપિટેક્સિયલ શીટની મુખ્ય લાક્ષણિકતાઓમાં શામેલ છે
1. સિંગલ-જંકશન સ્ટ્રક્ચર: આ લેસર સામાન્ય રીતે એક જ ક્વોન્ટમ વેલથી બનેલું હોય છે, જે કાર્યક્ષમ પ્રકાશ ઉત્સર્જન પ્રદાન કરી શકે છે.
2. તરંગલંબાઇ: 940 nm ની તરંગલંબાઇ તેને ઇન્ફ્રારેડ સ્પેક્ટ્રમ શ્રેણીમાં બનાવે છે, જે વિવિધ એપ્લિકેશનો માટે યોગ્ય છે.
3. ઉચ્ચ કાર્યક્ષમતા: અન્ય પ્રકારના લેસરોની તુલનામાં, VCSEL માં ઉચ્ચ ઇલેક્ટ્રો-ઓપ્ટિકલ રૂપાંતર કાર્યક્ષમતા છે.
4. કોમ્પેક્ટનેસ: VCSEL પેકેજ પ્રમાણમાં નાનું અને એકીકૃત કરવામાં સરળ છે.
5. ઓછી થ્રેશોલ્ડ કરંટ અને ઉચ્ચ કાર્યક્ષમતા: દફનાવવામાં આવેલા હેટરોસ્ટ્રક્ચર લેસરો અત્યંત ઓછી લેસિંગ થ્રેશોલ્ડ કરંટ ઘનતા (દા.ત. 4mA/cm²) અને ઉચ્ચ બાહ્ય વિભેદક ક્વોન્ટમ કાર્યક્ષમતા (દા.ત. 36%) દર્શાવે છે, જેમાં રેખીય આઉટપુટ પાવર 15mW થી વધુ હોય છે.
6. વેવગાઇડ મોડ સ્થિરતા: દફનાવવામાં આવેલા હેટરોસ્ટ્રક્ચર લેસરમાં તેના રીફ્રેક્ટિવ ઇન્ડેક્સ ગાઇડેડ વેવગાઇડ મિકેનિઝમ અને સાંકડી સક્રિય સ્ટ્રીપ પહોળાઈ (લગભગ 2μm) ને કારણે વેવગાઇડ મોડ સ્થિરતાનો ફાયદો છે.
7. ઉત્તમ ફોટોઇલેક્ટ્રિક રૂપાંતર કાર્યક્ષમતા: એપિટેક્સિયલ વૃદ્ધિ પ્રક્રિયાને ઑપ્ટિમાઇઝ કરીને, આંતરિક નુકસાન ઘટાડવા માટે ઉચ્ચ આંતરિક ક્વોન્ટમ કાર્યક્ષમતા અને ફોટોઇલેક્ટ્રિક રૂપાંતર કાર્યક્ષમતા મેળવી શકાય છે.
8. ઉચ્ચ વિશ્વસનીયતા અને આયુષ્ય: ઉચ્ચ-ગુણવત્તાવાળી એપિટેક્સિયલ ગ્રોથ ટેકનોલોજી સારી સપાટી દેખાવ અને ઓછી ખામી ઘનતા સાથે એપિટેક્સિયલ શીટ્સ તૈયાર કરી શકે છે, જેનાથી ઉત્પાદનની વિશ્વસનીયતા અને આયુષ્યમાં સુધારો થાય છે.
9. વિવિધ એપ્લિકેશનો માટે યોગ્ય: GAAS-આધારિત લેસર ડાયોડ એપિટેક્સિયલ શીટનો ઉપયોગ ઓપ્ટિકલ ફાઇબર કોમ્યુનિકેશન, ઔદ્યોગિક એપ્લિકેશનો, ઇન્ફ્રારેડ અને ફોટોડિટેક્ટર્સ અને અન્ય ક્ષેત્રોમાં વ્યાપકપણે થાય છે.
GaAs લેસર એપિટેક્સિયલ શીટના મુખ્ય ઉપયોગની રીતોમાં શામેલ છે
1. ઓપ્ટિકલ કોમ્યુનિકેશન અને ડેટા કોમ્યુનિકેશન: GaAs એપિટેક્સિયલ વેફર્સનો ઉપયોગ ઓપ્ટિકલ કોમ્યુનિકેશનના ક્ષેત્રમાં, ખાસ કરીને હાઇ-સ્પીડ ઓપ્ટિકલ કોમ્યુનિકેશન સિસ્ટમ્સમાં, લેસર અને ડિટેક્ટર જેવા ઓપ્ટોઇલેક્ટ્રોનિક ઉપકરણોના ઉત્પાદન માટે વ્યાપકપણે થાય છે.
2. ઔદ્યોગિક ઉપયોગો: GaAs લેસર એપિટેક્સિયલ શીટ્સનો ઔદ્યોગિક ઉપયોગોમાં પણ મહત્વપૂર્ણ ઉપયોગો છે, જેમ કે લેસર પ્રોસેસિંગ, માપન અને સેન્સિંગ.
3. કન્ઝ્યુમર ઇલેક્ટ્રોનિક્સ: કન્ઝ્યુમર ઇલેક્ટ્રોનિક્સમાં, GaAs એપિટેક્સિયલ વેફર્સનો ઉપયોગ VCsels (વર્ટિકલ કેવિટી સરફેસ-એમિટિંગ લેસરો) બનાવવા માટે થાય છે, જેનો સ્માર્ટફોન અને અન્ય કન્ઝ્યુમર ઇલેક્ટ્રોનિક્સમાં વ્યાપકપણે ઉપયોગ થાય છે.
4. Rf એપ્લિકેશન્સ: GaAs સામગ્રીના RF ક્ષેત્રમાં નોંધપાત્ર ફાયદા છે અને તેનો ઉપયોગ ઉચ્ચ-પ્રદર્શન RF ઉપકરણોના ઉત્પાદન માટે થાય છે.
5. ક્વોન્ટમ ડોટ લેસરો: GAAS-આધારિત ક્વોન્ટમ ડોટ લેસરો સંદેશાવ્યવહાર, તબીબી અને લશ્કરી ક્ષેત્રોમાં વ્યાપકપણે ઉપયોગમાં લેવાય છે, ખાસ કરીને 1.31µm ઓપ્ટિકલ કોમ્યુનિકેશન બેન્ડમાં.
6. પેસિવ Q સ્વીચ: GaAs શોષકનો ઉપયોગ ડાયોડ-પમ્પ્ડ સોલિડ સ્ટેટ લેસરો માટે પેસિવ Q સ્વીચ સાથે થાય છે, જે માઇક્રો-મશીનિંગ, રેન્જિંગ અને માઇક્રો-સર્જરી માટે યોગ્ય છે.
આ એપ્લિકેશનો હાઇ-ટેક એપ્લિકેશનોની વિશાળ શ્રેણીમાં GaAs લેસર એપિટેક્સિયલ વેફર્સની સંભાવના દર્શાવે છે.
XKH ગ્રાહકોની જરૂરિયાતોને અનુરૂપ વિવિધ માળખા અને જાડાઈ સાથે GaAs એપિટેક્સિયલ વેફર્સ ઓફર કરે છે, જે VCSEL/HCSEL, WLAN, 4G/5G બેઝ સ્ટેશન વગેરે જેવા એપ્લિકેશનોની વિશાળ શ્રેણીને આવરી લે છે. XKH ના ઉત્પાદનો ઉચ્ચ પ્રદર્શન અને વિશ્વસનીયતા સુનિશ્ચિત કરવા માટે અદ્યતન MOCVD સાધનોનો ઉપયોગ કરીને બનાવવામાં આવે છે. લોજિસ્ટિક્સની દ્રષ્ટિએ, અમારી પાસે આંતરરાષ્ટ્રીય સ્ત્રોત ચેનલોની વિશાળ શ્રેણી છે, અમે ઓર્ડરની સંખ્યાને લવચીક રીતે હેન્ડલ કરી શકીએ છીએ, અને થિનિંગ, સેગ્મેન્ટેશન વગેરે જેવી મૂલ્યવર્ધિત સેવાઓ પ્રદાન કરી શકીએ છીએ. કાર્યક્ષમ ડિલિવરી પ્રક્રિયાઓ સમયસર ડિલિવરી સુનિશ્ચિત કરે છે અને ગુણવત્તા અને ડિલિવરી સમય માટે ગ્રાહકની જરૂરિયાતોને પૂર્ણ કરે છે. આગમન પછી, ગ્રાહકો વ્યાપક તકનીકી સહાય અને વેચાણ પછીની સેવા મેળવી શકે છે જેથી ખાતરી કરી શકાય કે ઉત્પાદન સરળતાથી ઉપયોગમાં લેવાય છે.
વિગતવાર આકૃતિ
