JGS1, JGS2, અને JGS3 ફ્યુઝ્ડ સિલિકા ઓપ્ટિકલ ગ્લાસ

ટૂંકું વર્ણન:

"ફ્યુઝ્ડ સિલિકા" અથવા "ફ્યુઝ્ડ ક્વાર્ટઝ" જે ક્વાર્ટઝ (SiO2) નો આકારહીન તબક્કો છે. બોરોસિલિકેટ ગ્લાસથી વિપરીત, ફ્યુઝ્ડ સિલિકામાં કોઈ ઉમેરણો નથી; તેથી તે તેના શુદ્ધ સ્વરૂપમાં, SiO2 માં અસ્તિત્વ ધરાવે છે. સામાન્ય કાચની તુલનામાં ફ્યુઝ્ડ સિલિકામાં ઇન્ફ્રારેડ અને અલ્ટ્રાવાયોલેટ સ્પેક્ટ્રમમાં વધુ ટ્રાન્સમિશન હોય છે. ફ્યુઝ્ડ સિલિકા અલ્ટ્રાપ્યુર SiO2 ને પીગળીને અને ફરીથી ઘન કરીને ઉત્પન્ન થાય છે. બીજી તરફ, કૃત્રિમ ફ્યુઝ્ડ સિલિકા સિલિકોનથી ભરપૂર રાસાયણિક પૂર્વગામી જેમ કે SiCl4 માંથી બનાવવામાં આવે છે જે ગેસિફાઇડ થાય છે અને પછી H2 + O2 વાતાવરણમાં ઓક્સિડાઇઝ થાય છે. આ કિસ્સામાં બનેલી SiO2 ધૂળને સબસ્ટ્રેટ પર સિલિકામાં ફ્યુઝ કરવામાં આવે છે. ફ્યુઝ્ડ સિલિકા બ્લોક્સને વેફરમાં કાપવામાં આવે છે જેના પછી વેફરને અંતે પોલિશ કરવામાં આવે છે.

અમને ઇમેઇલ મોકલો

સુવિધાઓ

વિગતવાર આકૃતિ

JGS1, JGS2, અને JGS3 ફ્યુઝ્ડ સિલિકાનું વિહંગાવલોકન

JGS1, JGS2, અને JGS3 એ ફ્યુઝ્ડ સિલિકાના ત્રણ ચોકસાઇ-એન્જિનિયર્ડ ગ્રેડ છે, જે દરેક ઓપ્ટિકલ સ્પેક્ટ્રમના ચોક્કસ પ્રદેશો માટે રચાયેલ છે. અદ્યતન ગલન પ્રક્રિયાઓ દ્વારા અતિ-ઉચ્ચ શુદ્ધતા સિલિકામાંથી ઉત્પાદિત, આ સામગ્રી અસાધારણ ઓપ્ટિકલ સ્પષ્ટતા, ઓછી થર્મલ વિસ્તરણ અને ઉત્કૃષ્ટ રાસાયણિક સ્થિરતા દર્શાવે છે.

જેજીએસ1- ઊંડા અલ્ટ્રાવાયોલેટ ટ્રાન્સમિશન માટે ઑપ્ટિમાઇઝ કરેલ યુવી-ગ્રેડ ફ્યુઝ્ડ સિલિકા.
JGS2- નજીકના ઇન્ફ્રારેડ એપ્લિકેશનો માટે દૃશ્યમાન માટે ઓપ્ટિકલ-ગ્રેડ ફ્યુઝ્ડ સિલિકા.
JGS3- ઉન્નત ઇન્ફ્રારેડ કામગીરી સાથે IR-ગ્રેડ ફ્યુઝ્ડ સિલિકા.

યોગ્ય ગ્રેડ પસંદ કરીને, એન્જિનિયરો માંગણી કરતી ઓપ્ટિકલ સિસ્ટમ્સ માટે શ્રેષ્ઠ ટ્રાન્સમિશન, ટકાઉપણું અને સ્થિરતા પ્રાપ્ત કરી શકે છે.

JGS1, JGS2, અને JGS3 નો ગ્રેડ

JGS1 ફ્યુઝ્ડ સિલિકા - યુવી ગ્રેડ

ટ્રાન્સમિશન રેન્જ:૧૮૫–૨૫૦૦ એનએમ
મુખ્ય શક્તિ:ઊંડા યુવી તરંગલંબાઇમાં શ્રેષ્ઠ પારદર્શિતા.

JGS1 ફ્યુઝ્ડ સિલિકા કૃત્રિમ ઉચ્ચ-શુદ્ધતા સિલિકાનો ઉપયોગ કરીને બનાવવામાં આવે છે જેમાં કાળજીપૂર્વક નિયંત્રિત અશુદ્ધિ સ્તર હોય છે. તે UV સિસ્ટમોમાં અસાધારણ કામગીરી પ્રદાન કરે છે, 250 nm ની નીચે ઉચ્ચ ટ્રાન્સમિટન્સ, ખૂબ જ ઓછી ઓટોફ્લોરેસેન્સ અને સૌરીકરણ માટે મજબૂત પ્રતિકાર પ્રદાન કરે છે.

JGS1 ના પ્રદર્શન હાઇલાઇટ્સ:

૨૦૦ nm થી દૃશ્યમાન શ્રેણીમાં ૯૦% થી વધુ ટ્રાન્સમિશન.
યુવી શોષણ ઘટાડવા માટે હાઇડ્રોક્સિલ (OH) નું પ્રમાણ ઓછું.
એક્સાઇમર લેસરો માટે યોગ્ય ઉચ્ચ લેસર નુકસાન થ્રેશોલ્ડ.
સચોટ યુવી માપન માટે ન્યૂનતમ ફ્લોરોસેન્સ.

સામાન્ય એપ્લિકેશનો:

ફોટોલિથોગ્રાફી પ્રોજેક્શન ઓપ્ટિક્સ.
એક્સાઇમર લેસર વિન્ડોઝ અને લેન્સ (૧૯૩ એનએમ, ૨૪૮ એનએમ).
યુવી સ્પેક્ટ્રોમીટર અને વૈજ્ઞાનિક સાધનો.
યુવી નિરીક્ષણ માટે ઉચ્ચ-ચોકસાઇ મેટ્રોલોજી.

JGS2 ફ્યુઝ્ડ સિલિકા - ઓપ્ટિકલ ગ્રેડ

ટ્રાન્સમિશન રેન્જ:૨૨૦–૩૫૦૦ એનએમ
મુખ્ય શક્તિ:દૃશ્યમાનથી નજીકના ઇન્ફ્રારેડ સુધી સંતુલિત ઓપ્ટિકલ પ્રદર્શન.

JGS2 સામાન્ય હેતુવાળી ઓપ્ટિકલ સિસ્ટમો માટે રચાયેલ છે જ્યાં દૃશ્યમાન પ્રકાશ અને NIR કામગીરી મુખ્ય છે. જ્યારે તે મધ્યમ UV ટ્રાન્સમિશન પ્રદાન કરે છે, ત્યારે તેનું પ્રાથમિક મૂલ્ય તેની ઓપ્ટિકલ એકરૂપતા, ઓછી વેવફ્રન્ટ વિકૃતિ અને ઉત્તમ થર્મલ પ્રતિકારમાં રહેલું છે.

JGS2 ના પ્રદર્શન હાઇલાઇટ્સ:

VIS-NIR સ્પેક્ટ્રમમાં ઉચ્ચ ટ્રાન્સમિટન્સ.
લવચીક એપ્લિકેશનો માટે યુવી ક્ષમતા ~220 nm સુધી.
થર્મલ આંચકો અને યાંત્રિક તાણ સામે ઉત્તમ પ્રતિકાર.
ન્યૂનતમ બાયરફ્રિંજન્સ સાથે એકસમાન રીફ્રેક્ટિવ ઇન્ડેક્સ.

સામાન્ય એપ્લિકેશનો:

ચોકસાઇ ઇમેજિંગ ઓપ્ટિક્સ.
દૃશ્યમાન અને NIR તરંગલંબાઇ માટે લેસર વિન્ડો.
બીમ સ્પ્લિટર્સ, ફિલ્ટર્સ અને પ્રિઝમ્સ.
માઇક્રોસ્કોપી અને પ્રોજેક્શન સિસ્ટમ્સ માટે ઓપ્ટિકલ ઘટકો.

JGS3 ફ્યુઝ્ડ સિલિકા - IR

ગ્રેડ

ટ્રાન્સમિશન રેન્જ:૨૬૦–૩૫૦૦ એનએમ
મુખ્ય શક્તિ:ઓછા OH શોષણ સાથે ઑપ્ટિમાઇઝ્ડ ઇન્ફ્રારેડ ટ્રાન્સમિશન.

JGS3 ફ્યુઝ્ડ સિલિકાને ઉત્પાદન દરમિયાન હાઇડ્રોક્સિલ સામગ્રી ઘટાડીને મહત્તમ ઇન્ફ્રારેડ પારદર્શિતા પ્રદાન કરવા માટે ડિઝાઇન કરવામાં આવી છે. આ ~2.73 μm અને ~4.27 μm પર શોષણ શિખરોને ઘટાડે છે, જે IR એપ્લિકેશન્સમાં કામગીરીને ઘટાડી શકે છે.

JGS3 ના પ્રદર્શન હાઇલાઇટ્સ:

JGS1 અને JGS2 ની તુલનામાં શ્રેષ્ઠ IR ટ્રાન્સમિશન.
OH-સંબંધિત શોષણનું ન્યૂનતમ નુકસાન.
ઉત્તમ થર્મલ સાયકલિંગ પ્રતિકાર.
ઉચ્ચ-તાપમાન વાતાવરણમાં લાંબા ગાળાની સ્થિરતા.

સામાન્ય એપ્લિકેશનો:

IR સ્પેક્ટ્રોસ્કોપી ક્યુવેટ્સ અને બારીઓ.
થર્મલ ઇમેજિંગ અને સેન્સર ઓપ્ટિક્સ.
કઠોર વાતાવરણમાં IR રક્ષણાત્મક કવર.
ઉચ્ચ-તાપમાન પ્રક્રિયાઓ માટે ઔદ્યોગિક જોવાના બંદરો.

JGS1, JGS2, અને JGS3 નો મુખ્ય તુલનાત્મક ડેટા

વસ્તુ	જેજીએસ1	JGS2	JGS3
મહત્તમ કદ	<Φ200 મીમી	<Φ300 મીમી	<Φ200 મીમી
ટ્રાન્સમિશન રેન્જ (મધ્યમ ટ્રાન્સમિશન રેશિયો)	૦.૧૭~૨.૧૦અમ (તાજી>૯૦%)	૦.૨૬~૨.૧૦અમ (ટૅવગ>૮૫%)	૦.૧૮૫~૩.૫૦અમ (ટૅવગ>૮૫%)
OH- સામગ્રી	૧૨૦૦ પીપીએમ	૧૫૦ પીપીએમ	૫ પીપીએમ
ફ્લોરોસેન્સ (254nm થી ઉપર)	વર્ચ્યુઅલી ફ્રી	મજબૂત vb	મજબૂત VB
અશુદ્ધિ સામગ્રી	૫ પીપીએમ	૨૦-૪૦ પીપીએમ	૪૦-૫૦ પીપીએમ
બાયરફ્રિંજન્સ કોન્સ્ટન્ટ	૨-૪ નિયોમીટર/સેમી	૪-૬ નિયોમીટર/સેમી	૪-૧૦ એનએમ/સેમી
પીગળવાની પદ્ધતિ	કૃત્રિમ CVD	ઓક્સિ-હાઇડ્રોજન ગલન	વિદ્યુત ગલન
અરજીઓ	લેસર સબસ્ટ્રેટ: બારી, લેન્સ, પ્રિઝમ, અરીસો...	સેમિકન્ડક્ટર અને ઉચ્ચ તાપમાન વિન્ડો	IR અને UV સબસ્ટ્રેટ

વારંવાર પૂછાતા પ્રશ્નો – JGS1, JGS2, અને JGS3 ફ્યુઝ્ડ સિલિકા

પ્રશ્ન ૧: JGS1, JGS2 અને JGS3 વચ્ચે મુખ્ય તફાવત શું છે?
A:

જેજીએસ1- ૧૮૫ એનએમથી ઉત્કૃષ્ટ ટ્રાન્સમિશન સાથે યુવી-ગ્રેડ ફ્યુઝ્ડ સિલિકા, ડીપ-યુવી ઓપ્ટિક્સ અને એક્સાઇમર લેસરો માટે આદર્શ.
JGS2- સામાન્ય હેતુના ઓપ્ટિક્સ માટે યોગ્ય, નજીકના ઇન્ફ્રારેડ (220–3500 nm) એપ્લિકેશનોને દૃશ્યમાન બનાવવા માટે ઓપ્ટિકલ-ગ્રેડ ફ્યુઝ્ડ સિલિકા.
JGS3– IR-ગ્રેડ ફ્યુઝ્ડ સિલિકા, ઇન્ફ્રારેડ (260–3500 nm) માટે ઑપ્ટિમાઇઝ કરેલ, જેમાં OH શોષણની ટોચ ઓછી થઈ ગઈ.

પ્રશ્ન 2: મારી અરજી માટે મારે કયો ગ્રેડ પસંદ કરવો જોઈએ?
A:

પસંદ કરોજેજીએસ1યુવી લિથોગ્રાફી, યુવી સ્પેક્ટ્રોસ્કોપી, અથવા ૧૯૩ એનએમ/૨૪૮ એનએમ લેસર સિસ્ટમ માટે.
પસંદ કરોJGS2દૃશ્યમાન/NIR ઇમેજિંગ, લેસર ઓપ્ટિક્સ અને માપન ઉપકરણો માટે.
પસંદ કરોJGS3IR સ્પેક્ટ્રોસ્કોપી, થર્મલ ઇમેજિંગ અથવા ઉચ્ચ-તાપમાન જોવાની બારીઓ માટે.

પ્રશ્ન ૩: શું બધા JGS ગ્રેડમાં સમાન શારીરિક શક્તિ હોય છે?
A:હા. JGS1, JGS2, અને JGS3 સમાન યાંત્રિક ગુણધર્મો ધરાવે છે - ઘનતા, કઠિનતા અને થર્મલ વિસ્તરણ - કારણ કે તે બધા ઉચ્ચ-શુદ્ધતાવાળા ફ્યુઝ્ડ સિલિકામાંથી બનાવવામાં આવે છે. મુખ્ય તફાવત ઓપ્ટિકલ છે.

પ્રશ્ન 4: શું JGS1, JGS2, અને JGS3 લેસર નુકસાન સામે પ્રતિરોધક છે?
A:હા. બધા ગ્રેડમાં લેસર નુકસાનની ઊંચી મર્યાદા (>20 J/cm² 1064 nm, 10 ns પલ્સ) હોય છે. UV લેસર માટે,જેજીએસ1સૌરીકરણ અને સપાટીના અધોગતિ માટે સૌથી વધુ પ્રતિકાર પ્રદાન કરે છે.

અમારા વિશે

XKH ખાસ ઓપ્ટિકલ ગ્લાસ અને નવી ક્રિસ્ટલ સામગ્રીના હાઇ-ટેક વિકાસ, ઉત્પાદન અને વેચાણમાં નિષ્ણાત છે. અમારા ઉત્પાદનો ઓપ્ટિકલ ઇલેક્ટ્રોનિક્સ, કન્ઝ્યુમર ઇલેક્ટ્રોનિક્સ અને લશ્કરી સેવા આપે છે. અમે સેફાયર ઓપ્ટિકલ ઘટકો, મોબાઇલ ફોન લેન્સ કવર, સિરામિક્સ, LT, સિલિકોન કાર્બાઇડ SIC, ક્વાર્ટઝ અને સેમિકન્ડક્ટર ક્રિસ્ટલ વેફર્સ ઓફર કરીએ છીએ. કુશળ કુશળતા અને અત્યાધુનિક સાધનો સાથે, અમે બિન-માનક ઉત્પાદન પ્રક્રિયામાં શ્રેષ્ઠ છીએ, જેનો હેતુ અગ્રણી ઓપ્ટોઇલેક્ટ્રોનિક સામગ્રી હાઇ-ટેક એન્ટરપ્રાઇઝ બનવાનો છે.