4H-સેમી HPSI 2inch SiC સબસ્ટ્રેટ વેફર ઉત્પાદન ડમી સંશોધન ગ્રેડ

સિલિકોન કાર્બાઇડ સબસ્ટ્રેટ મુખ્યત્વે વાહક અને અર્ધ-ઇન્સ્યુલેટિંગ પ્રકારમાં વિભાજિત થાય છે, વાહક સિલિકોન કાર્બાઇડ સબસ્ટ્રેટથી n-ટાઈપ સબસ્ટ્રેટનો ઉપયોગ મુખ્યત્વે એપિટેક્સિયલ GaN-આધારિત LED અને અન્ય ઓપ્ટોઈલેક્ટ્રોનિક ઉપકરણો, SiC- આધારિત પાવર ઈલેક્ટ્રોનિક ઉપકરણો વગેરે માટે થાય છે, અને અર્ધ-અવાહક. ઇન્સ્યુલેટીંગ SiC સિલિકોન કાર્બાઇડ સબસ્ટ્રેટનો ઉપયોગ મુખ્યત્વે GaN હાઇ-પાવર રેડિયો ફ્રીક્વન્સી ઉપકરણોના એપિટેક્સિયલ ઉત્પાદન માટે થાય છે.વધુમાં ઉચ્ચ-શુદ્ધતા અર્ધ-ઇન્સ્યુલેશન HPSI અને SI અર્ધ-ઇન્સ્યુલેશન અલગ છે, ઉચ્ચ શુદ્ધતા અર્ધ-ઇન્સ્યુલેશન વાહક સાંદ્રતા 3.5 * 1013 ~ 8 * 1015/cm3 શ્રેણી, ઉચ્ચ ઇલેક્ટ્રોન ગતિશીલતા સાથે;અર્ધ-ઇન્સ્યુલેશન એ ઉચ્ચ-પ્રતિરોધક સામગ્રી છે, પ્રતિકારકતા ખૂબ ઊંચી છે, સામાન્ય રીતે માઇક્રોવેવ ઉપકરણ સબસ્ટ્રેટ માટે વપરાય છે, બિન-વાહક.

અર્ધ-ઇન્સ્યુલેટીંગ સિલિકોન કાર્બાઇડ સબસ્ટ્રેટ શીટ SiC વેફર

SiC સ્ફટિક માળખું તેનું ભૌતિક, Si અને GaAs સંબંધિત, SiC ભૌતિક ગુણધર્મો માટે છે તે નક્કી કરે છે;પ્રતિબંધિત બેન્ડ પહોળાઈ મોટી છે, Si કરતાં 3 ગણી નજીક, ઉપકરણ લાંબા ગાળાની વિશ્વસનીયતા હેઠળ ઊંચા તાપમાને કામ કરે છે તેની ખાતરી કરવા માટે;બ્રેકડાઉન ફીલ્ડ સ્ટ્રેન્થ ઊંચી છે, તે Si કરતા 1O ગણી છે, તેની ખાતરી કરવા માટે કે ઉપકરણની વોલ્ટેજ ક્ષમતા, ઉપકરણ વોલ્ટેજ મૂલ્યમાં સુધારો કરે છે;ઉપકરણની આવર્તન અને પાવર ઘનતા વધારવા માટે સંતૃપ્તિ ઇલેક્ટ્રોન દર મોટો છે, Si કરતા 2 ગણો છે;થર્મલ વાહકતા ઊંચી છે, Si કરતાં વધુ, થર્મલ વાહકતા ઊંચી છે, થર્મલ વાહકતા ઊંચી છે, થર્મલ વાહકતા ઊંચી છે, થર્મલ વાહકતા ઊંચી છે, Si કરતાં વધુ છે, થર્મલ વાહકતા ઊંચી છે, થર્મલ વાહકતા ઊંચી છે.ઉચ્ચ થર્મલ વાહકતા, Si કરતાં 3 ગણા કરતાં વધુ, ઉપકરણની ગરમીના વિસર્જન ક્ષમતામાં વધારો કરે છે અને ઉપકરણના લઘુચિત્રીકરણને અનુભવે છે.